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本文標(biāo)題："一般常用來(lái)量測(cè)薄膜性質(zhì)的儀器簡(jiǎn)介"
新聞來(lái)源：未知 發(fā)布時(shí)間：2012-12-1 0:41:55 本站主頁(yè)地址：http://www.nhgjxq.cn
一般常用來(lái)量測(cè)薄膜性質(zhì)的儀器簡(jiǎn)介
需要用到那些儀器來(lái)量測(cè)薄膜的性質(zhì)呢？
一般常用來(lái)量測(cè)薄膜性質(zhì)的儀器有如下幾種。
階梯式膜厚量測(cè)儀可量測(cè)薄膜厚度。原理是利用探針在試片表面上掃描鍍膜區(qū)與未鍍膜區(qū)間的高度落差，以測(cè)得薄膜厚度。
掃描式電子顯微鏡 可量測(cè)薄膜的表面或斷面形態(tài)、成分及厚度。原理是利用反射電子束或二次電子束的成像，獲得薄膜表面及斷面形貌。
穿透式電子顯微鏡可量測(cè)薄膜的內(nèi)部結(jié)晶型態(tài)及晶體結(jié)構(gòu)。原理是利用穿透式電子束直接成像，或繞射電子束成像，讀取薄膜內(nèi)部組織及晶體結(jié)構(gòu)的資訊。
原子力顯微鏡可以極高倍率量測(cè)薄膜表面的形貌、凡得瓦力、摩擦系數(shù)及表面能。原理是藉由探針以接觸、半接觸或未接觸方式，在薄膜表面掃描，并量取待測(cè)物表面上原子力的大小，做為形貌或表面性質(zhì)判斷的依據(jù)。
Ｘ光繞射儀可探測(cè)薄膜內(nèi)的晶體結(jié)構(gòu)。原理是利用短波長(zhǎng)的Ｘ光通過(guò)薄膜后產(chǎn)生的繞射圖譜，讀取薄膜晶體資訊。
微／奈米硬度機(jī)可量測(cè)薄膜本質(zhì)硬度及彈性模數(shù)。原理是利用一個(gè)鉆石壓頭垂直施力于薄膜表面，讀取表面壓痕深度，或作用力與位移深度的關(guān)系，以評(píng)估微小機(jī)械特性。
刮痕測(cè)試機(jī)可量測(cè)薄膜與基材間的附著力。原理是利用鉆石探針側(cè)向施力于薄膜表面上，讀取表面刮痕與探針受力大小，做為度量薄膜附著力的依據(jù)。
磨耗測(cè)試機(jī)可量測(cè)薄膜相對(duì)于對(duì)手材的摩擦系數(shù)與磨耗量。原理是利用不同材質(zhì)或不同形狀的對(duì)手材在薄膜表面上施力，并且做前后或圓周運(yùn)動(dòng)，讀取薄膜表面軌跡深度或損失量，以及摩擦力。
液滴接觸角量測(cè)儀可量測(cè)薄膜的親水性、潑水性及表面能。原理是利用測(cè)試液滴與薄膜之間的接觸角大小，得知薄膜表面能特性。
傅立葉轉(zhuǎn)換紅外線光譜儀可量測(cè)薄膜內(nèi)部的化學(xué)官能基種類及鍵結(jié)方式。原理是利用紅外線透過(guò)薄膜之后產(chǎn)生的吸收光譜讀取薄膜資訊。
橢圓儀可量測(cè)薄膜的折射系數(shù)及厚度。原理是利用偏極的雷射光穿過(guò)薄膜后造成的相位差以獲得薄膜的折射系數(shù)及厚度資訊。
共軛焦顯微鏡常用來(lái)量測(cè)薄膜表面加工后的形態(tài)。原理是利用雷射光學(xué)斷層掃描原理讀取薄膜的表面形貌資訊。
霍耳量測(cè)儀可量測(cè)薄膜的導(dǎo)電度及載子濃度。原理是利用霍耳效應(yīng)讀取薄膜資訊。
拉曼光譜儀可量測(cè)薄膜的鍵結(jié)方式。原理是利用可見光受到分子振動(dòng)的作用而形成的散射位移量讀取薄膜資訊。
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